产品简介：
高温超导溅射靶材（HTS Sputtering Targets）是采用 REBCO 超导陶瓷粉末经特殊烧结工艺制备的溅射靶材，专为高温超导薄膜沉积而开发。适用于 PLD（脉冲激光沉积）、磁控溅射等多种薄膜沉积工艺，是第二代高温超导带材（2G HTS）生产线的关键耗材。支持多种形状和尺寸定制，并可根据客户工艺需求调整组成配方。
核心技术参数：
化学纯度
99.9%
原料高纯度保障
相纯度
纯 123 相
XRD 验证
靶材密度
85% – 90%
约 5.5 g/cm³
最大尺寸
Φ30 cm (12")
圆形靶最大直径
详细技术规格：
化学组成
YBa2Cu3O7-x、GdBa2Cu3O7-x、EuBa2Cu3O7-x；其他组成和掺杂（BZO、TiO2等）可按需定制
形状规格
圆形（直径最大 30cm/12"）、方形、矩形及其他定制形状
靶材键合
支持多种键合方式（In 焊、Cu 背板等），按客户溅射设备要求定制
包装方式
防潮密封包装，附产品检测报告
化学纯度
99.9%（标准规格）
相纯度
纯 123 相，XRD 确认
靶材密度
理论密度的 85%–90%（约 5.5 g/cm³）
典型应用场景：
● 第二代超导带材（2G HTS）生产 作为卷对卷磁控溅射生产线的 REBCO 功能层靶材，直接决定带材的超导性能，是核心耗材。
● PLD 超导薄膜研究 脉冲激光沉积工艺中的超导陶瓷靶材，用于制备高品质 REBCO 外延薄膜，适合科研和小批量生产。
● 超导约瑟夫森结器件 用于超导量子干涉仪（SQUID）、超导单光子探测器（SNSPD）等量子器件的薄膜制备原料。
● 超导微波器件 制备用于基站滤波器、探测系统的高温超导微波薄膜器件。
● 薄膜工艺研发 为高校和研究机构提供稳定一致的 REBCO 靶材，用于超导薄膜沉积工艺参数优化研究。
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● 所需额定电流大小（A）
● 操作温度（77K 液氮 / 4K 液氦 / 其他）
● 是否需要 G-10 保护管或铜编织线接头
● 数量需求
● 应用场景（磁体类型、制冷方式等）
电话/微信：136 7015 8145（黎经理）
